IBM的3D打印機將改革芯片原型

南極熊3D打印網(wǎng)報道
    位于瑞士蘇黎世的IBM研究院在今天公布了一款微觀（microscopic）3D打印機，可以在柔軟的聚合物上編寫納米級分辨率圖案，隨后化合物可以轉(zhuǎn)化為硅，III-V(砷化鎵)，或是石墨烯基板。不像電子束(e-beam)光刻技術(shù)，工程師在顯微鏡的觀察下，這些圖案可以寫、可以閱讀以進行實時驗證。
    “與e-beam的一個很大的不同，就是你可以簡單的寫出3D圖案，對于e-beam這是很困難的。”IBM研究員的科學(xué)家Colin Rawlings對電子工程專輯(EE Times)說，“其他一些比較大的差異，就是這種技術(shù)的成像能力——我們不僅可以寫，還能進行閱讀。在制作出3D圖案之后，我們可以停止尖端的加熱，然后將它當(dāng)做原子力顯微鏡(AFM)來使用，以亞納米的分辨率進行測量——讓我們可以核實我們的3D圖案，并輕易的對聚合物層下的結(jié)構(gòu)進行定位。
    這種微觀3D打印機正在授權(quán)給蘇黎世公司SwissLitho AG，并命名為NanoFrazor——結(jié)合了英文單詞“razor”和德文單詞“frase”(意為milling machine，銑床)。NanoFrazor可以像納米級分辨率的銑床一樣運作，在很多方面都比e-beam優(yōu)勝，但只需要其價格的一部分——大約50萬美元，e-beam則需要至少花費150萬，甚至是3000萬美元。
    “NanoFrazor很適合所有應(yīng)用類型的快速原型制作，”Rawlings告訴電子工程專輯(EE Times)，“它開環(huán)運行以達到每秒以毫米計算的掃描速度，并使用一個長10納米的專門的加熱尖端，安裝在一個長700納米的可彎曲懸臂上�！�

    線寬精確度是10納米，但3D的深度精確度只是1納米，而閱讀圖案的測量深度則是亞納米級精確度。IBM希望在2014年年末之前，可以在III-V(III-V族化合物)和石墨烯材料上，打通場效應(yīng)晶體管(FET)，利用石印傳輸技術(shù)。
    “我們沉積了一個聚合物層，然后是硅層或III-V層，然后是另一個我們書寫的聚合物層�！盧awlings說，“然后在書寫完畢后，我們會切換到一個均勻稀釋整個聚合物系統(tǒng)，導(dǎo)致生成樣式的孔。然后我們會使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)蝕刻聚合物，最終蝕刻以下的襯底，創(chuàng)造出我們可以通過在圖案的孔沉積材料的掩飾中。

    據(jù)南極熊3D打印網(wǎng)了解，IBM還在嘗試在其量子計算應(yīng)用——它生成圖案以控制、操控光收發(fā)器的地方，不能用傳統(tǒng)的石印術(shù)實現(xiàn)——中使用其3D打印技術(shù)。它稱系統(tǒng)的一個獨特的屬性是3D圖案可以形成來指引光滑角落的光，從而減少光引導(dǎo)中的光散射問題。

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